EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Feltre suau d'alta puresa
El feltre suau d'alta puresa de Semixlab està dissenyat específicament per a aplicacions exigents de camp tèrmic d'alta temperatura en la fabricació de semiconductors. Produït a partir de precursors basats en carboni d'alta qualitat i purificat mitjançant un processament avançat, aquest material de feltre suau ofereix nivells d'impuresa ultra baixos, un excel·lent aïllament tèrmic i una adaptabilitat estructural excepcional. La seva estructura flexible permet un ajust precís dins de dissenys complexos de camp tèrmic, permetent gradients de temperatura optimitzats i condicions de procés estables. Esperem la vostra consulta.
Descripció
Per què importa la puresa en els camps tèrmics? Quan es produeix la tercera generació?
semiconductors (SiC/GaN), els feltres aïllants tradicionals amb un alt contingut de cendres (més de 500 ppm) tendeixen a alliberar impureses metàl·liques a temperatures superiors a 1600 °C. Això provoca defectes de xarxa i redueix el rendiment de la làmina.
El feltre suau de Semixlab passa pel nostre exclusiu procés de purificació química a alta temperatura, reduint el nivell total d'impureses a menys de 5 ppm. Això no només garanteix un entorn de creixement net, sinó que també proporciona l'estabilitat tèrmica extrema necessària per al creixement de cristalls de cicle llarg.
Semixlab Edge
Som més que un proveïdor: som el vostre soci per a zones d'alta temperatura. Fundada per investigadors de CAS, destaquem en la combinació de solucions d'aïllament amb recobriments CVD (TaC/SiC). No només subministrem feltre aïllant; optimitzem tot el vostre camp tèrmic mitjançant escalfadors de grafit i TaC porós per reduir el consum d'energia. El nostre mecanitzat CNC de 5 eixos intern permet kits personalitzats i premuntats que s'adapten amb precisió al disseny del vostre forn amb zero errors.
Especificacions
| Propietats | Feltre premium a base de PAN | Feltre de viscosa d'alta especificació |
| Total d'impureses | ≤5 ppm (GDMS) | ≤ 10 ppm |
| Contingut de carboni | ≥ 99.99% | ≥ 99.95% |
| Densitat a granel | 0.10 - 0.15 g/cm³ | 0.08 - 0.12 g/cm³ |
| Cond. tèrmic (@1000°C) | 0.12 - 0.15 W/m·K | 0.09 - 0.13 W/m²·K |
| Temperatura màxima de servei. | 2800 °C (Inert/Buit) | 2600 °C (Inert/Buit) |
| Gruix estàndard | 3mm / 5mm / 10mm / 20mm | 3mm / 5mm / 10mm / 20mm |
Aplicacions
Aplicacions crítiques
Rendiment provat en el camp:
Dissenyat per al creixement de SiC i silici (PVT/CZ), el nostre feltre actua com a estabilitzador tèrmic per suprimir les dislocacions cristal·lines. En MOCVD/Epitaxy (compatible amb Aixtron, NuFlare), roman inert sota fluxos corrosius d'H2/NH3, bloquejant la difusió d'impureses. Per al trefilatge de fibra i la sinterització de safir, la seva propietat de zero desgasificació garanteix la integritat del buit i evita la pèrdua de rendiment.
avantatge competitiu
Avantatges bàsics
Puresa ultraalta (<5 ppm), provada per GDMS. Al, B, Fe i altres impureses clau estrictament controlades per evitar la contaminació creuada en el creixement epitaxial.
Excel·lent aïllament tèrmic: conductivitat tèrmica tan baixa com 0.12 W/m·K a 1000 °C, reduint la pèrdua de calor i controlant el gradient tèrmic dins de ±1 °C.
Baixa despreniment de partícules: El tractament optimitzat de la fibra i la superfície redueix la pols en els cicles de buit, protegint els susceptors i escalfadors de grafit CVD (TaC/SiC).
Alta flexibilitat i ajust: suau i compressible per a un embolcall sense fissures de 360° en forns complexos, evitant fuites tèrmiques de l'aïllament rígid.
FAQ
Preguntes freqüents optimitzades
P: Com millora el feltre suau de Semixlab la vida útil dels escalfadors de grafit?
R: En proporcionar un escut tèrmic més estable, el nostre feltre suau redueix la càrrega de potència necessària per l'escalfador per mantenir les temperatures objectiu, alentint així la sublimació del carboni i l'oxidació dels elements calefactors de grafit.
P: Es pot utilitzar el vostre feltre en entorns de gasos d'alt flux?
R: Sí. Per a processos d'alta velocitat de gas (com ara MOCVD), recomanem el nostre feltre d'alta densitat basat en PAN o una solució híbrida amb un revestiment de làmina de grafit, que evita l'erosió de la fibra i garanteix una contaminació zero per partícules.
els nostres serveis
