Oblia de quars semiconductor

L'oblea de quars semiconductor Semixlab és un substrat de sílice fosa polit amb precisió i d'ultra alta puresa, dissenyat per a entorns de processament de semiconductors exigents.

S'aplica àmpliament com a oblia fictícia, oblia portadora, substrat òptic i base de fotomàscara en sistemes d'oxidació tèrmica, CVD/LPCVD, PECVD i litografia.

Dissenyada amb un 99.99% de SiO₂ d'alta puresa, aquesta oblia de quars ofereix una estabilitat tèrmica excepcional, inertícia química i transparència òptica, garantint un funcionament estable i lliure de contaminació en línies de fabricació de semiconductors avançades.

Ⅰ. Propietats del material i de la superfície

● Material: Sílice fosa sintètica o natural (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Opcions de diàmetre: 2", 4", 6", 8", 12" (mides personalitzades disponibles).

● Acabat superficial: Polit per dues cares, planitud ≤ 5 μm, rugositat superficial ≤ 0.5 nm.

● Resistència tèrmica: Estable fins a 1200 °C en funcionament continu.

● Coeficient de dilatació tèrmica: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Transmissió òptica: >90% de 190 nm a 2,600 nm.

Cada oblia se sotmet a una estricta inspecció superficial, verificació dimensional i anàlisi de puresa per garantir el compliment total dels requisits de grau de semiconductors.

Ⅱ. Funcions clau en els processos de semiconductors

1. Process Carrier en sistemes CVD i LPCVD

Les oblies de quars s'utilitzen com a oblies de ficció o espaiadores per estabilitzar el flux de gas i la uniformitat de la temperatura durant la deposició de pel·lícules primes de SiO₂, Si₃N₄ i polisilici. La seva precisió dimensional garanteix un creixement uniforme de la pel·lícula i una generació mínima de partícules durant els cicles de deposició.

2. Aplicacions de forns d'oxidació i difusió

En processos d'oxidació a alta temperatura i difusió de dopants, les oblies de quars actuen com a escuts tèrmics o monitors de procés, mantenint una distribució uniforme de la temperatura i evitant la contaminació de les oblies de producció.

3. Ús òptic i litogràfic

Gràcies a la seva alta transmitància òptica i uniformitat de l'índex de refracció, l'oblea de quars és ideal per a la fabricació de fotomàscares, substrats d'exposició DUV i eines de calibratge òptic. Garanteix una transmissió de llum consistent per a sistemes de litografia i-line, KrF i ArF.

4. Entorns de plasma i gravat

En sistemes de gravat en sec i CVD per plasma, les oblies de quars s'utilitzen com a escuts de cambra o finestres de plasma, oferint una excel·lent resistència dielèctrica i durabilitat química contra gasos halògens (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Metrologia i calibratge d'equips

Les oblies de quars serveixen com a oblies de referència per al calibratge del gruix de la pel·lícula, la temperatura i la planitud. La seva superfície ultrallisa i sense defectes permet resultats de mesurament precisos i repetibles, garantint l'estabilitat del control del procés.

aplicacions típiques

● Oblia fictícia per a sistemes CVD, LPCVD i PECVD

● Portador de procés o escut tèrmic en forns d'oxidació i difusió

● Substrat de fotomàscara per a litografia UV/DUV

● Oblívia de referència per a la calibració d'equips i la metrologia

● Finestra de la cambra de plasma i protector del procés de gravat

L'oblea de quars semiconductor Semixlab és un substrat d'alt rendiment dissenyat per als processos de semiconductors més exigents. La seva estabilitat tèrmica, precisió òptica i puresa química el fan indispensable en aplicacions de deposició, oxidació, litografia i metrologia. Amb un suport integral de personalització i enginyeria, Semixlab ofereix solucions que maximitzen la consistència del procés, la fiabilitat del rendiment i l'eficiència operativa. Esperem sincerament convertir-nos en el vostre soci a llarg termini a la Xina.