Paletes en voladís de SiC

Ⅰ. Paletes en voladís de SiC d'alta puresa per a la manipulació precisa de les oblies

Les paletes cantilever de SiC són components crítics que s'utilitzen en equips de processament tèrmic per manipular oblies durant les etapes d'epitàxia, difusió i oxidació en la fabricació de semiconductors. Les seves propietats tèrmiques i mecàniques excepcionals les fan ideals per a entorns d'alta temperatura i corrosius en operacions de sala blanca.

Ⅱ. Visió general del producte i avantatges funcionals

1. Propietats excepcionals del material per a aplicacions d'alt rendiment

Les paletes cantilever de SiC de Semixlab estan fabricades amb recobriments de carbur de silici recristal·litzat d'alta puresa (R-SiC) o SiC CVD, que proporcionen una excel·lent conductivitat tèrmica (fins a 120 W/m·K), una baixa expansió tèrmica (~4.0 x 10⁻⁶/K) i una resistència excepcional a la corrosió i al xoc tèrmic. Aquestes propietats garanteixen un suport estable de les oblies durant els processos d'alta temperatura, minimitzant els riscos de deformació o contaminació de les oblies.

2. Estabilitat dimensional i planitud superiors

Amb una deformació mínima fins i tot a temperatures superiors a 1400 °C, el disseny en voladís garanteix una col·locació i transferència uniformes de les oblies, cosa que és vital per a la uniformitat de la capa epitaxial. La baixa massa i l'alta rigidesa del SiC milloren el rendiment del sistema i la resposta a la temperatura durant el processament tèrmic ràpid.

3. Puresa superficial de grau de sala blanca

Gràcies a l'acabat superficial dens i llis de SiC, les paletes de Semixlab minimitzen la generació de partícules i la desgasificació. Això és particularment important en entorns que requereixen nivells de neteja de Classe 1 o ISO 14644-1 Classe 2.

4. Adaptat per a forns epitaxials, de difusió i de deposició química en fase vapor (CVD)

Les nostres paletes en voladís de SiC s'utilitzen àmpliament en plataformes de forns MOCVD, LPCVD i d'oxidació, i són compatibles amb les principals marques d'equips com ASM, TEL i Veeco. Estan dissenyades per a una uniformitat tèrmica i una precisió mecànica òptimes, cosa que ajuda a garantir un rendiment més alt i una menor variació del procés.

3. Per què escollir Semixlab?

Oferim serveis d'enginyeria a mida, com ara:

● Personalització del producte per a la mida, l'estructura i el grau del material

● Optimització del recobriment per a la resistència tèrmica i química

● Prototipatge ràpid i capacitat de producció en lots petits

● Consultoria tècnica i validació de disseny

Com a fabricant i fàbrica xinesa líder de productes de pales en voladís de SiC, Semixlab insisteix en proporcionar tecnologia i solucions de productes personalitzades. Tant si voleu optimitzar el procés de tractament tèrmic existent, comprar peces de recanvi d'alt rendiment o desenvolupar conjuntament solucions de SiC personalitzades, Semixlab us proporcionarà suport tècnic i de lliurament.

● Portadors d'oblies d'epitaxia MOCVD

● Braços de pales de forn d'oxidació i difusió

● Sistemes de càrrega de wafers en eines LPCVD/CVD

● Braços de suport de susceptors personalitzats per al creixement de semiconductors compostos