Inici> llista de presentació
Us heu preguntat mai com de pocs dispositius electrònics com els telèfons intel·ligents i els ordinadors es fabricaven? Un pas crucial en la fabricació d'aquests dispositius es coneix com a fotolitografia. El procés utilitza un material especial conegut com a fotorresina. Avui descobrirem què fa Semixlab. fotoresist de fotolitografia és i per què és tan important en la fabricació de semiconductors.
La fotoresina és un material reactiu a la llum. És un component crític de la fotolitografia, el procés de crear petits patrons en oblies de semiconductors. Per crear circuits integrats, petits components que fan funcionar els nostres dispositius, aquests patrons són fonamentals.
Hi ha dos tipus principals de fotoresistències: positives i negatives. La fotoresistència positiva és més fàcil d'eliminar quan s'exposa a la llum, i la fotoresistència negativa és més difícil d'eliminar. Cadascuna té els seus propis avantatges i es tria segons els requisits per a la fabricació de semiconductors.
Gruix del Semixlab fotoresistent és un aspecte molt important en la fotolitografia. El seu gruix pot determinar l'eficiència amb què pot protegir el material que hi ha a sota mentre es realitza el gravat. El gravat és l'eliminació de l'excés de material de la làmina semiconductora per formar els patrons necessaris. Si es varia el gruix de la fotoresistència, els fabricants poden mantenir la profunditat de gravat segons les especificacions, cosa que finalment resulta en circuits integrats d'alta qualitat.
Paper de Sembla que la sorra bruta o abrasiva habitual que està ben barrejada amb la superfície d'asfalt a causa del desgast del trànsit i del vent ambiental forma una capa emmascaradora i un patró perifèric quan la fotorresina es dissol.
El Semixlab material fotoresistent és essencial per formar els petits patrons en els circuits integrats. L'oblia recoberta de fotoresist s'exposa a la llum a través d'una màscara i, depenent del tipus de fotoresist, les parts exposades (il·luminades) de la fotoresist es tornen més o menys solubles. El fabricant pot copiar el patró de la màscara en una oblia, formant les petites característiques que juntes formen el circuit integrat.
EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
